在红外热成像常温测量领域，探测器类型: 氧化钒探测器（VOx）或多晶硅探测（α-Si）。
我们这里说的常温就是在1000度以下；通常我们基本分为2个流派，美国或欧洲，因为用的是相同的工艺，只要制程和质量控制没有问题，那这两探测器比较下来，氧化钒会更好一些，主要是氧化钒探测器明显比多晶硅的噪点小、点测温精度好、灵敏度高。
究其原因，氧化钒有很悠久的应用历史，差不多要比非晶硅早10年，氧化钒技术由美国的Honeywell公司在九十年代初研发成功，目前其专利授权FLIR-INDIGO、BAE、L-3/IR、DRS、以及日本NEC、以色列SCD等几家公司生产。在各种技术的积淀下，间距可达10μm，非晶硅只有12μm；氧化钒噪声系数比非晶硅强两个数量级；氧化钒灵敏度是非晶硅一倍；○ ：氧化钒尺寸更小，这样可以使得光学系统尺寸也相应减小了，美国在这个上面的投入较大，通过技术和规模的效益，使得氧化钒探测器的有极高性价比高：更强性能，和更低廉的系统成本；在众多实际使用中，可以看到氧化钒图像非均匀性远好于非晶硅；
在全球红外热像制造领域，美国、法国在核心部件焦平面探测仪具有核心技术，其他国际，诸如日本，英国和以色列，加拿大等等则是从美国取得技术许可，所以在2004年，美国有了一个许可证的制度，来保证说所有VOX的探测器，如果超过25HZ，在其生产和应用是有相当限制的。所以国内红外热像仪的探测器，原来基本来自于法国的SOFRADIR 和ULIS公司（两家是母子公司），但是欧洲的产品也会在温度分辨率上进行许可证的限制。
这次推出的红外热像仪H10上，所配置的就是氧化钒探测器，再加上海康威视严格质量控制和先进的工艺，使得红外热像仪H10有着非同一般的成像表现。特别是25HZ，让使用者不会有任何拖尾的感觉。动静之间，一目了然，泾渭分明。
